PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)란?CVD는 화학기상 증착법. GAS와 같은 다양한 반응 기체와 에너지를 활용해 기판 표면에화학적 반응을 통해 피복하여 증착하는 방법. + 플라즈마를 사용해서 증착시킨다 thermal 방식에 비해서 저온, 그리고 고압 환경에서 웨이퍼 위에 금속 및 절연 박막을 증착시킬 수 있다는 장점을 가짐. PECVD를 사용해서 크게 두가지 박막을 형성하는데 사용되는데, 그것이 ARC와 ACL. ARC (Anti-reflection-coating) ARC는 말그대로 반도체 포토리소그래피 공정에서 사용되는 반사방지 코팅막ARC 코팅이 필수적인 이유는,1. 웨이퍼 표면에서 빛이 반사되어 노광으로 들어가기도 하고2. 그로인해, 원하지 ..
